El conseller d'Empresa i Treball de la Generalitat visita l'IMB-CNM CSIC, centre de l'Esfera UAB
Roger Torrent, conseller d’Empresa i Treball de la Generalitat de Catalunya, s’ha reunit amb el director de l’Institut de Microelectrònica de Barcelona (IMB-CNM CSIC), la vicerectora d’Innovació, Transferència i Emprenedoria de la UAB, Rosa M. Sebastián, i el delegat institucional del CSIC a Catalunya, Lluís Calvo.
El conseller d’Empresa i Treball de la Generalitat de Catalunya, Roger Torrent, ha visitat aquest matí les instal·lacions de l’Institut de Microelectrònica de Barcelona (IMB-CNM, CSIC), seu del Centre Nacional de Microelectrònica del CSIC, al Campus de la UAB. S'ha reunit amb l'equip directiu del centre i ha entrat a la Sala Blanca de Micro i Nanofabricació, una instal·lació única a Catalunya on es poden manufacturar xips. A la trobada, s’ha destacat el caràcter estratègic d’aquest espai i de l’IMB-CNM al PERTE Xip (Projecte Estratègic per a la Recuperació i Transformació Econòmica de Microelectrònica i Semiconductors).
L’IMB-CNM és el centre més gran a nivell estatal dins la seva àrea i un dels que més ingressos ha rebut al camp de la microelectrònica en els projectes europeus Horitzó 2020.
El conseller Torrent, acompanyat pel seu cap de gabinet, Jordi Martínez, ha estat rebut per l’equip directiu de l’IMB-CNM, encapçalat pel director Lluís Fonseca, la vicerectora d’Innovació, Transferència i Emprenedoria de la Universitat Autònoma de Barcelona, Rosa M. Sebastián, i el delegat institucional del CSIC a Catalunya, Lluís Calvo. Primer, han mantingut una reunió inicial per a parlar de les darreres novetats en microelectrònica, les múltiples possibilitats que ofereix la Sala Blanca i el paper de l’IMB-CNM al nou ecosistema de disseny i fabricació europeu.
Després, el conseller ha recorregut la Sala Blanca de Micro i Nanofabricació, reconeguda com a Infraestructura Científica i Tècnica Singular (ICTS, segell del Ministeri de Ciència i Innovació). El conseller Torrent ha pogut conèixer en primera persona com funciona aquesta instal·lació, una de les més grans del sud d’Europa, amb 1.500 metres quadrats dedicats a la investigació i el desenvolupament en micro i nanofabricació de semiconductors. La sala està considerada un actiu estratègic al PERTE Xip, ja que compta amb personal especialitzat i una trajectòria de més de 30 anys.
Els fons del PERTE representen un impacte transformador per a la indústria tecnològica i contribuiran a l’autonomia de Catalunya i de la Unió Europea en matèria de micro i nanoelectrònica i, en definitiva, en sobirania tecnològica. Tot en un context d’escassetat de semiconductors i crisi de subministrament, el qual ha demostrat la rellevància dels xips en tots els aspectes de la vida quotidiana.